网站地图 / 企业邮箱 / 中文 / ENGLISH

留言标题: *
姓名: *
邮箱: *
留言内容: *
 
镀膜设备

您的位置:产品展示 > 镀膜设备

  • 应用范围
  • 技术特点
  • 主要技术参数
  • 尺寸图

      本设备应用真空溅射原理,在基体上制备各种金属膜、合金膜、化合物膜、介质膜等等,所制膜层具有致密、针孔少、低温成膜、附着力强等优点。本设备适用于实验室的薄膜研究和小批量生产。